快盈11v发布时间：2021-3-29 9:17:23
平板氧化铝粉是以进口工业氧化铝粉为主要原料,通过特殊处理，控制晶粒生长方向,颗粒呈独特的平板状结构,硬度达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕。
1、与其它片状粉体相比，片状氧化铝具有优良的综合性能，如熔点、硬度大、机械强度、耐磨性好、耐化学侵蚀、抗氧化和耐热性好等。
2、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提了磨削速度，提了工效，因此可减少研磨机的数量、人工和磨削时间；
3、由于形状为平板状，所以对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到96%以上；
4、片状氧化铝具有较小的厚度与较大的径厚比，在厚度方向可以达到纳米级，而在径向为微米级，因此，它兼有纳米和微米粉末的双重功效;表面活性适中，既能与其它活性基团有效结合，又不易团聚而便于有效分散。
5、片状氧化铝具有良好的附着力，显著的屏蔽效应与反射光线的能力。
6、片状氧化铝粉体近乎透明、无色，且具有平坦光滑的表面，结晶完好的晶体呈正六角形。
二、平板氧化铝粉用途：
1. 电子材料的抛光粉，单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研磨和抛光
2. 增加聚合物导热率的填充剂
3. 提陶瓷断裂韧性的增强剂
4. 比云母更好用的珠光颜料底材
5. 让人容光焕发的化妆品添加剂
三、研磨抛光性能优势：
用于抛光粉片状氧化铝可制成性能优良的抛光粉，这种抛光粉可用于微电子材料的抛光，也可用于陶瓷的抛光和光学显微镜等诸如此类的玻璃表面的抛光。片状氧化铝具有良好的分散稳定性和平行排列性，当用于抛光粉时，可以让片状氧化铝的上下表面基本平行于被抛光材料的表面，因此可以避免表面下的损伤，使抛光后的表面依然平滑如镜。
四、平板氧化铝粉规格：
|
粒度（um）
|
粒度分布
|
包装
|
|||
|
D0
|
D3
|
D50
|
D94
|
||
|
45
|
＜82.9
|
53.4±3.2
|
34.9±2.3
|
22.8±1.8
|
20
|
|
40
|
＜77.8
|
41.8±2.8
|
29.7±2.0
|
19.0±1.0
|
20
|
|
35
|
＜64.0
|
37.6±2.2
|
25.5±1.7
|
16.0±1.0
|
20
|
|
30
|
＜50.8
|
30.2±2.1
|
20.8±1.5
|
14.5±1.1
|
20
|
|
25
|
＜40.3
|
26.3±1.9
|
17.4±1.3
|
10.4±0.8
|
20
|
|
20
|
＜32.0
|
22.5±1.6
|
14.2±1.1
|
9.00±0.80
|
20
|
|
15
|
＜25.4
|
16.0±1.2
|
10.2±0.8
|
6.30±0.50
|
20
|
|
12
|
＜20.2
|
12.8±1.0
|
8.20±0.60
|
4.90±0.50
|
20
|
|
9
|
＜16.0
|
9.70±0.80
|
6.40±0.50
|
3.60±0.30
|
20
|
|
5
|
＜12.7
|
7.20±0.60
|
4.70±0.40
|
2.80±0.25
|
20
|
|
3
|
＜10.1
|
5.20±0.40
|
3.10±0.30
|
1.80±0.30
|
20
|
|
2
|
＜8.5
|
4.20±0.30
|
2.50±0.30
|
0.90±0.20
|
20
|
|
1
|
＜5.5
|
3.50±0.30
|
1.50±0.30
|
0.30±0.30
|
20
|